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硫酸盐镀铜的电极过程

来源:admin     时间::2018-05-21 16:44:58

硫酸盐镀铜(acid copper plating)是应用最广泛的无氰镀铜工艺,具有成分简单、成本低、维护方便、废液处理简单等优点,加入添加剂后,可直接获得光亮镀铜层,从而省去了机械抛光工序。该工艺广泛应用于防护装饰性电镀、塑料电镀、电铸以及印刷线路板金属化加厚镀层和图形电镀的底层。
      钢铁件在硫酸盐镀铜液中会产生疏松的置换铜层,严重影响镀层的结合力;锌压铸件、铝及其合金也会受镀液的腐蚀,因而在活泼性较强的基体上不能直接镀光亮酸铜。此外,酸铜也不适于复杂件的电镀。
      电及过程
      硫酸盐镀铜的电极反应很简单,阴极主要为:
                       Cu2﹢+2eˉ→Cu
      当阴极电流密度过小时,有可能发生Cu2﹢的不完全还原,产生Cu﹢:
                       Cu2++eˉ→Cu+
      当阴极电流密度多大时,可能析氢。
      阳极的主要反应铜溶解为Cu2﹢:
                       Cu-2eˉ→Cu2﹢
      当电流密度过小时,可能发生铜的不完全氧化:
                       Cu-eˉ→Cu﹢;2Cu2﹢Cu2﹢+Cu
    此时生成的铜为铜粉,还可以与新生态的氧化作用,生成Cu2O,悬浮在镀液中。金属铜粉和氧化亚铜对光亮镀铜十分不利。
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